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氨分解發生裝置將氨氣裂解成75%氫氣（H2）和25%（N2）。廣泛應用于工業金屬光亮退火熱處理、粉末冶金燒結、金屬材料氣體保護焊，磁性材料的退磁，電子、陶瓷以及各類精密組件的硬釬焊。
氨分解發生裝置（20 ~ 100立方）
氨分解發生裝置將氨氣裂解成75%氫氣（H2）和25%（N2），作為還原氣體。
氨分解發生裝置（100～180立方）
氨分解發生裝置將氨氣裂解成75%氫氣（H2）和25%（N2）。廣泛應用于工業金屬光亮退火熱處理、粉末冶金燒結、金屬材料氣體保護焊，磁性材料的退磁，電子、陶瓷以及各類精密組件的硬釬焊。
小型實驗室用氨分解發生裝置
小型氨分解爐，適用于實驗室氣氛爐。氣體生產量1~5m3/H，精密可控。
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